欢迎来到365英国上市官网
咨询热线

18165782065

当前位置:首页  >  新闻中心

  • 2025

    11-22

    同轴光显微镜通过独特的光路设计,将光源与成像光路同轴对齐,利用垂直入射的光线消除传统显微镜的阴影与眩光,实现样品表面形貌与内部结构的立体化、高对比度观测。其核心优势在于对微小结构的精准解析,广泛应用于材料科学、半导体制造、生物医学等领域,成为微观世界探索的关键工具。一、材料表面形貌的“3D建模师”同轴光显微镜通过垂直照明消除斜射光产生的阴影,尤其适合观察表面起伏微小的材料:1.金属材料:检测金属表面的划痕、氧化层厚度及晶粒边界。2.陶瓷与玻璃:分析陶瓷表面的微裂纹、玻璃基板的...

  • 2025

    10-28

    在显微成像技术领域,HDMI高清显微镜与普通光学显微镜的差异不仅体现在硬件结构上,更深刻反映于成像原理、功能扩展及用户体验的全面升级。两者的技术分野,本质上是传统光学与数字化智能化的碰撞融合。一、成像系统:从光学透镜到数字传感的跨越普通的依赖光学透镜组实现光路折射,通过目镜直接观察样本。其成像质量受限于物镜数值孔径与光源稳定性,虽能呈现高分辨率细节,但存在视场狭窄、景深不足的固有缺陷。而HDMI高清显微镜采用CMOS/CCD数字传感器替代目镜,将光学信号转化为数字信号,通过H...

  • 2025

    10-22

    金相工业显微镜是材料科学、冶金及机械制造等领域中,用于观察金属、合金等不透明材料微观结构的核心仪器。规范其使用方法,是获得清晰、真实显微组织图像,从而准确进行相分析、粒度测定及缺陷判断的基础。掌握其操作,如同掌握了开启材料性能与热处理工艺关联大门的钥匙。一、观察前的核心准备:制样是成功的基石金相工业显微镜观察的前提是获得一个平整、无划痕、无塑性变形层的光洁样品表面。任何制样缺陷都会在显微镜下被放大,导致误判。规范的制样流程必须包括:1.取样与镶嵌:使用精密切割机获取具有代表性...

  • 2025

    9-27

    工具显微镜被誉为精密制造行业的“尺寸仲裁者”,从微小齿轮的齿形到精密刀具的轮廓,其测量结果的可靠性直接关系到产品质量与性能。而衡量其核心价值的,正是测量精度——这把在微米甚至亚微米尺度上进行裁量的无形标尺。理解其精度内涵及保障方法,是科学使用该仪器的基石。一、精度的多维内涵:不止于一个数字工具显微镜的测量精度是一个系统工程,它并非一个单一的指标,而是由多个维度共同构成的综合性能体现:1.示值误差:指仪器示值与被测尺寸真值之间的接近程度,是衡量精度的核心。一台高精度的工具显微镜...

  • 2025

    9-21

    LCD显微镜将传统光学技术与现代数字显示结合,为科研、教学与工业检测提供了便捷高效的观测体验。然而,其精密的光学系统、电子元件与机械结构决定了它并非普通的办公设备,精心的日常维护是保障其长期稳定运行、获得清晰准确图像的关键。遵循科学的维护流程,能将故障风险降至最小,并显著延长仪器寿命。一、日常维护的核心:清洁、防尘与规范操作维护工作应遵循“防大于治”的原则,核心在于防止污染与错误操作。1.光学系统清洁:呵护“眼睛”的晶莹物镜、目镜和LCD屏幕是仪器的“眼睛”,其清洁度直接决定...

  • 2025

    8-27

    在科学技术的快速发展下,显微镜技术已经走向了全新的高度。特别是在半导体行业中,半导体显微镜作为一种高精度的工具,扮演着至关重要的角色。这种显微镜不仅为科学研究提供了更精细的观察工具,也推动了电子元件和纳米技术的发展。本文将为大家介绍它的类型、工作原理以及它在现代科学和工业中的应用。1.类型半导体显微镜一般可以分为扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)两大类。这两种显微镜各具特色,在半导体领域的应用也有所不同。扫描电子显微镜(SEM)扫描电子显微镜利用电子束扫描样本...

  • 2025

    8-21

    在生物学研究的深邃宇宙中,荧光生物显微镜如同携带“魔法光束”的探索者,通过特异性标记与高分辨率成像,将细胞内的蛋白质舞蹈、基因表达风暴、信号传导闪电等微观动态转化为清晰可见的视觉语言。这项融合光学工程与分子生物学的技术,已成为揭示生命奥秘、解码疾病机制的核心工具,推动着从基础研究到临床转化的全链条突破。一、细胞结构的“分子地图绘制”荧光生物显微镜通过荧光蛋白标记与免疫荧光染色技术,为细胞器贴上“发光标签”。例如,利用GFP(绿色荧光蛋白)融合表达,科学家初次实时观测到线粒体在...

  • 2025

    7-29

    在半导体制造领域,显微镜不仅是观察微观结构的“眼睛”,更是质量控制的“标尺”。从晶圆表面缺陷检测到芯片内部失效分析,半导体显微镜以光学与电子技术的融合,构建起覆盖微米至纳米级的多维度检测体系,成为推动集成电路技术进步的核心工具。1.光学显微镜:基础检测的“广角镜头”作为半导体检测的“入门级”设备,光学显微镜通过透镜系统放大样品图像,适用于晶圆表面宏观缺陷的快速筛查。例如,显微镜以5-150倍的放大倍率,可清晰呈现晶圆边缘的崩边、划痕等机械损伤;金相显微镜则通过50-1000倍...

共 14 条记录,当前 1 / 2 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页